INDUSTRIAL & WORKPLACE · HSINCHU

京瀚科技廠辦

KEENHAMMER TECH

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01 / SITE

在密集廠區中
留一片開放廣場

SITE & OPEN SPACE

本案基地位於新豐車站旁工業區中，周邊三面皆為既有廠房建築所包圍，僅北向臨路側有創造自然通風採光的機會，因此於北側留設出廣場空間創造視野與綠化環境，並作為車輛卸貨與停靠之空間

02 / CONCEPT

FLOW & ETCHING

京瀚科技在該廠區主要產線為 TMAH 轉充填之相關作業，是半導體廠務與化學品供應鏈中風險極高的環節，必須在封閉且受控的環境下精確落實

在設計上我們以「流動刻蝕」為設計概念，在建築立面上整合相關造型，使雨遮與開窗面展現蜿蜒流動的長河，創造具現代感的建築美學

03 / NATURAL LIGHT

STRUCTURE & DAYLIGHT

利用挑高廠房所需之環樑系統延伸出簷作為導光板，極大化自然光的導入，降低使用耗能

04 / NIGHT VIEW

05 / PROJECT DATA